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高级原子沉积机

产品属性本产品采购属于商业贸易行为

高级原子沉积机P-300B Advanced ALD
  • 市场价格: 电议
  • 产品型号: P-300B Advanced ALD
  • 发布时间: 2019/9/11
  • 更新时间: 2020/8/8
  • 生产地: 欧洲
  • 访问次数: 165次
  • 公司名称: 深圳市蓝星宇电子科技有限公司

企业档案

深圳市蓝星宇电子科技有限公司

2  年 营业执照已上传

企业类型:代理商

公司地址:山东11选5深圳市宝安区沙井共和第四工业区A6栋7楼

主营产品:光刻机,真空镀膜机,离子刻蚀机, 半导体辅助材料,半导体微纳检测仪器,太阳能吸收率发射率检测仪, 实验检测仪器设备,紫外线UV光清洗机UV灯.

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产品简介

PICOSUN P-300B Advanced ALD 高级原子沉积机,基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距),200mm晶圆25+2片/批次(标准间距),(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.

详细内容

公司简介

 PICOSUN P-300B Advanced ALD 高级原子沉积机

技术参数
  。基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距)
  。200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)

工艺温度
 :50 - 500 °C

基片传送选件:。
 气动升降(手动加载)
         。半自动装载,用线性装载器实现
         。52片晶圆盒式全自动装载,用真空批量Load lock实现

前驱体:
  。液态,固态,气态,臭氧源
       。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
       。4根独立源管线,最多加载6个前驱体源

重量 :
400 + 300 kg

尺寸:
 (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm

选件 :
PICOFLOW™ 扩散增强,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。

验收标准 :
标准设备验收标准为 Al2O3 工艺



PICOSUN高产量的批量型工业用ALD系统 

各种先进的批量产品装载及自动化选项ALD技术可以覆盖各种形状、各种表面的样品,可以覆盖最细小的地方,最难到达的地方。具有高度的保形性、均一性100%无针孔。这使得ALD可以应用于各种行业里,实现各种表面的保护。ALD薄膜可以附着在各种表面上,例如金属,玻璃,塑料,乃至纤维及粉末。作为气相、低温的沉积技术,ALD薄膜可以生长在非常敏感的表面上,例如聚合物薄膜。

今天,
PicosunALD技术应用在钟表部件、珠宝、硬币上进行防着色,防腐蚀的装饰涂层。在生物植入医疗部件上的生物兼容、生物活性涂层。致密、惰性、密封、弹性、透明的ALD薄膜技术挑战传统的膜生长方式。在PCB防腐蚀保护、防摩损等领域,ALD层大大提升了部件的质量、可靠性及寿命。

应用
ALD U
 产品
     
应用
.
 


关键词:PICOSUN  P-1000  Pro  ALD  生产型原子层沉积机    镀膜沉积  

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